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Author: taizihuang

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@@ -37,6 +37,10 @@ <h4>原文网址：<a href="https://blog.udn.com/MengyuanWang/181687848">https:/
 <p>然而要解決產業問題，只能通過政府級別的對話與合作。這個理應排名前二的政治議題，卻在當前的台灣政治環境下，是想都不用想的不可能；這是殖民地傀儡政權悲哀的又一體現。</p>
 <p>【後註一，2025/02/08】過去三年我評論俄烏戰事，曾反復提到其戰場形態之所以出人意料地類似一戰，是因爲兩者同樣出現了革命性裝備的廣汎應用（一戰是機槍，當前是無人機），從而產生軍事戰術的歷史轉折點，導致二戰以來所有正規軍隊都奉行的大規模機械化縱深打擊，在交戰雙方的技術水平和兵員數量並不懸殊的前提下基本失效，迫使俄烏都轉而采用一戰末期德軍開發的特攻突擊小隊戰法（指Stormtroopers；博客早年已經解釋過，這裏的“Storm”不是“暴風”而是“突擊”的意思，所以“Stormtroopers”是“特攻突擊隊”而不是“暴風部隊”，與“Stormgewehr”是“突擊步槍”而不是“暴風步槍”、“Stormgeschutz”是“突擊炮”而不是“暴風炮”同理）。</p>
 <p>有大陸軍迷站著説話不腰疼，從開戰起就不斷嘲笑俄軍拉跨，其實那個時段的中國陸軍在裝備和理論上與俄軍並無本質上的差別：詳細來説，參與朱日和演習的解放軍部隊，與同時期攻入烏克蘭的俄軍相比，電磁戰能力可能略强些，但同樣無法壓制人數兩倍、新世代反坦克武器人手一支（此處並無文學修辭上的誇大：北約被確認在戰前提供了９萬枚，明顯超過開戰時烏軍一綫步兵的總人數）、無人機質量數量對等、北約C4ISR體系全力兜底的防守方。中方的真正強處，在於具備全球一半的工業產能和其所帶來的產業研發效率，所以雖然一樣是在學習應對戰場上的全新經驗教訓，中方裝備的升級，卻遠遠比俄方要更深入、全面、有效；例如要對抗無人機攻頂坦克，三年下來，俄軍只能把烏龜殼越做越大，而中國卻已經公開展示推銷世界首個實用化的全仰角、隨動式主動防護系統（Active Protection System，APS，型號為GL６，參見<a href="https://www.youtube.com/watch?v=9B-oKrOYxII"><span style="color:blue">《解放军新型坦克防护系统 “黑科技”重磅升级！GL-6主动防御系统可拦截不同方向来袭目标》</span></a>；美軍還在推廣之中的以色列製“Trophy”“獎杯”系統，使用有限仰角攔截器，無力應對高速和低速目標，基本專爲抵擋平射的RPG火箭彈設計，反無人機能力極爲有限）。由於中國原本就在民用無人機產業具有霸主級地位，我們可以簡單看出，在遙遠的下一場戰爭世代革命降臨之前，解放軍都將持續占有無人機和反無人機作戰的絕對優勢；正文中已經提過國軍空潛快非對稱戰法極可能因此徹底無效，而綠衛兵的諸般巷戰防禦“推演”（這兩個月身在台灣的不幸後果之一，是被極度弱智的公共輿論所環繞，包括YOUTUBE視頻推薦在内）也徒然淪爲與二戰前期意大利Mussolini諸多軍事妄想同一級別的小丑行徑。</p>
+<p>【後註二，2025/03/11】雖然正文裏的PPT並不詳細全面，但在實際給演講的過程中探討台灣經濟前景的時候，我特別强調了一個結論，後來在二月的《龍行天下》節目中也曾提及，亦即臺積電及其周邊產業固然是台灣過去兩年迅速喪失競爭力的例外，但也不可能長期維持優勢地位。這裏的邏輯論證可以簡單濃縮為：連ASML也將被取代，臺積電怎麽可能遺世獨立呢？</p>
+<p>談到取代ASML，就必須討論中方的EUV光刻機。2023年博客（參見<a href="180084901.html"><span style="color:blue">《金融史觀（三）政策建議》</span></a>【後註三】）提到二代半導體大基金的貪腐被清理之後，華爲在深圳新成立了幾家子公司，開始為國家管理最尖端的製程研發。去年已經有足夠資訊，可以在留言討論中估計國產EUV光刻機商用交付約在2026年底/2027年初。本周又有消息更新（參見例如<a href="https://www.techpowerup.com/333801/china-develops-domestic-euv-tool-asml-monopoly-in-trouble"><span style="color:blue">《China Develops Domestic EUV Tool, ASML Monopoly in Trouble》</span></a>），除了再一次印證進度預期（2025年第三季試產，2026年量產）之外，還提到華爲選擇了與ASML不同的技術路綫：後者用的是LPP（Laser Produced Plasma）光源，而前者則采用LDP（請注意，這一波新聞全都把LDP説成是Laser-induced Discharge Plasma的縮寫，這應該是原始信息來源所犯的筆誤，學術界所討論的LDP向來都是Laser-assisted Discharge Plasma，參考這個日本團隊的一系列論文<a href="https://www.spiedigitallibrary.org/conference-proceedings-of-spie/PC13215/PC1321514/LDP-EUV-source-performance-and-cost-of-ownership-improvement/10.1117/12.3036726.short"><span style="color:blue">《LDP EUV source performance and cost-of-ownership improvement》</span></a>）。</p>
+<p><img src="./img/f_28722081_1.JPG"/></p>
+<p>以上是LPP和LDP光源的示意圖。錫等離子體作爲EUV光刻機的光源，其技術難點有二：一是高功率輸出要求，二是如何匹配深紫外光反射鏡系統（包括等離子體擴散污染鏡面的問題）。LPP完全依賴激光來蒸發錫滴以產生等離子體，然而激光的產生和吸收過程，能量轉換效率先天就很低，於是不但電量需求高，而且必須消散大量熱能（參考博客多年來對激光核聚變NIF的討論），這是LPP最大的缺點。而LDP的激光只負責定時定位，絕大部分的離子化能量由電場提供，所以在能量轉換效率上有超過一個數量級的優勢。LDP的缺點則在於較難匹配光學系統，包括錫光源面積大，和初始聚焦鏡以及其防污染系統都較為複雜（參考上圖）等等。所以兩個技術路綫的整體優劣對比，要視華爲團隊的實用設計優化程度而定；我們翹首以待。</p>
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